중국이 향후 10년 안에 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML의 기술력을 따라잡지 못할 것이라는 관측이 나왔다. 2일(현지시간) 블룸버그에 따르면 글로벌 투자은행(IB) UBS는 최근 이러한 내용을 담은 보고서를 발간했다. 보고서는 중국이 10년 내 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비를 대체할 만한 기술을 확보하기 어려울 것이라고 분석했다.
이에 대해 프랑수아 그자비에 부비니 UBS 애널리스트는 광원과 레이저 하위 시스템을 중심으로 한 특허 활동을 근거로 들며 "중국의 기술 성숙도가 ASML이 EUV 노광장비 양산을 시작하기 15년 전과 비슷한 수준"이라고 평가했다.
[베이징 송광섭 특파원]









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