한·중 양국간 지재권 보호 협력 기반 강화한다

[대전=이데일리 박진환 기자] 특허청은 오는 10~13일 한·중 지적재산권 협력 및 중국 진출기업의 지재권 보호 강화를 위해 ‘한·중 지식재산 교류회’를 운영한다고 5일 밝혔다.

이번 교류회는 중국 내에서 지재권 업무를 담당하고 있는 중앙 및 지방 공무원을 국내로 초청해 양국의 지재권 보호 관련 법·제도 개정사항 등의 주요 내용을 공유하고 중국 진출기업의 지재권 애로사항을 해소하기 위해 마련됐다.

중국 방문단은 △지재권 보호 제도 공유를 위한 특허청 방문 간담회 △중국 진출기업의 현지 지재권 애로사항 청취를 위한 기업현장 방문 △중국 진출(예정)기업 대상 지재권 보호 세미나 참석 등의 일정을 수행한다.

중국 진출(예정)기업 지재권 보호 세미나에서는 중국 지재권 제도 소개 및 중국 진출 시 유의사항에 대한 발표와 더불어 우리기업의 질의사항에 대한 중국 방문단의 구체적인 답변이 진행될 예정이다.

신상곤 특허청 산업재산보호협력국장은 “이번 초청 교류회를 통해 한·중 양국의 지재권 보호 협력 기반이 더욱 강화되기를 바란다”면서 “앞으로도 해외 진출기업의 현지 지재권 애로사항을 해소할 수 있도록 지원을 강화해 나갈 것”이라고 강조했다.

한편 중국 진출(예정)기업 지재권 보호 세미나 참여를 희망하는 기업은 온라인으로 참가 신청이 가능하다. 자세한 사항은 한국지식재산보호원 해외지식재산협력실로 문의하면 된다.